一、概念

      潔凈室工程對控制硅芯片等產品接觸的大氣清潔度、溫度和濕度至關重要，使產品能夠在稱為潔凈室的良好環(huán)境空間中生產和制造。按照國際慣例，無塵凈化水平主要是根據每立方米空氣中顆粒直徑大于分割標準的顆粒數(shù)來確定的。100%的無塵意味著完全沒有灰塵，而是以非常微量的單位控制。當然，在這個標準中，符合灰塵標準的粒子比我們常見的灰塵已經很細微，但光學結構中的一些灰塵也會產生非常負面的影響，因此光學制作產品生產中沒有灰塵是必不可少的要求。

      每立方米小于0 . 3微米粒子大小的灰塵數(shù)量控制在3500個以下，達到國際無塵標準a級。目前適用于芯片級生產加工的無塵標準對灰塵的要求高于a級，這些高標準主要適用于某些更高的芯片生產。微塵的數(shù)量嚴格控制在每立方米1000個以內。這在業(yè)界一般被稱為1k水平。

      二、潔凈室工程的用途主要有以下三種:

      空氣凈化室:已經建好并可以運行的凈化室(設施)。具備所有相關的服務和功能。但是設施內沒有操作員操作的設備。

      靜態(tài)潔凈室:功能齊全，安裝正確，可根據設置使用或使用的潔凈室(設施)，但設施中沒有操作員。

      動態(tài)清潔室:位于正常使用的清潔室中，可提供完整的維修功能、設備和人員，以及在需要時執(zhí)行正常工作。